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技術(shù)文章
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  • 芯片開蓋機(jī)的原理有哪些?芯片開蓋機(jī),也稱為芯片開封機(jī),主要用于去除芯片的封裝材料,以便觀察和分析芯片內(nèi)部結(jié)構(gòu),同時(shí)保持芯片功能的完整性。其工作原理可以根據(jù)不同類型的芯片開蓋機(jī)而有所不同,但總體上可以分為以下幾種類型及其對應(yīng)的工作原理

    202410-29

  • 先進(jìn)封裝:TSV硅通孔 與 TGV 玻璃通孔硅通孔技術(shù)(TSV,Through Silicon Via)是一種前沿的封裝技術(shù),通過在硅片中垂直穿透,實(shí)現(xiàn)不同芯片或?qū)又g的功能集成。TSV 主要采用銅等導(dǎo)電材料填充硅通孔,以實(shí)現(xiàn)硅片內(nèi)部的垂直電氣連接。這種技術(shù)能夠減少信號傳輸?shù)难舆t,降低電容和電感,從而實(shí)現(xiàn)芯片的低功耗和高速通信,提升帶寬,并滿足器件集成的小型化需求。在此之前,芯片之間的大多數(shù)連接都是水平的,TSV 的誕生讓垂直堆疊多個(gè)芯片成為可能。Wire bonding(引線鍵合)和 Flip-Chip(倒裝焊)的 Bumping(凸點(diǎn))提供了芯片對外部的電互連,RDL(再布線)提供了芯片內(nèi)部水平方向的電互連,TSV 則提供了硅片內(nèi)部垂直方向的電互連。

    202410-23

  • RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的主要工藝參數(shù)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的主要工藝參數(shù)涉及射頻源、腔體及刻蝕、真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)以及其他多個(gè)方面。這些參數(shù)共同決定了RIE設(shè)備的刻蝕性能和應(yīng)用范圍。

    202410-18

  • 熱紅外成像顯微鏡的作用熱紅外成像顯微鏡利用紅外輻射進(jìn)行溫度測量。一切高于零度的物體都會發(fā)射紅外輻射,且輻射強(qiáng)度與物體表面溫度有關(guān)。

    20248-8

  • SiP與先進(jìn)封裝的異同點(diǎn)SiP系統(tǒng)級封裝(System in Package),先進(jìn)封裝HDAP(High Density Advanced Package),兩者都是當(dāng)今芯片封裝技術(shù)的熱點(diǎn),受到整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的高度關(guān)注。那么,二者有什么異同點(diǎn)呢?

    20248-2

  • X射線技術(shù)在汽車領(lǐng)域的經(jīng)典應(yīng)用包括發(fā)動機(jī)和底盤零件等金屬鑄件,以及傳感器、控制系統(tǒng)和輪胎等電子和機(jī)電零件。多樣化材料設(shè)計(jì)、電動汽車、自動駕駛:在日新月異的汽車行業(yè),質(zhì)量保證必須不斷迎接全新挑戰(zhàn)。Comet Yxlon 系統(tǒng)和汽車行業(yè)一樣,也在不斷發(fā)展。

    20248-1

  • EMMI微光顯微鏡的綠色成像途徑EMMI微光顯微鏡的綠色成像途徑通過優(yōu)化光子波長范圍和成像技術(shù),實(shí)現(xiàn)了對半導(dǎo)體器件缺陷的高效、精準(zhǔn)檢測。

    20247-30

  • EMMI微光顯微鏡和激光顯微鏡區(qū)別EMMI微光顯微鏡(Emission Microscope,光發(fā)射顯微鏡,也稱為PEM,Photon Emission Microscope)和激光顯微鏡在原理、功能和應(yīng)用上存在一些區(qū)別,以下是詳細(xì)的比較

    20248-8

  • 芯片開封機(jī)的維護(hù)保養(yǎng)要點(diǎn)定期使用專門的清潔工具和清潔劑對芯片開封機(jī)的表面進(jìn)行清潔,以去除灰塵、油污等雜質(zhì),確保設(shè)備外觀整潔。

    20246-26

  • 如何選擇合適的超聲波顯微鏡?不同的領(lǐng)域和行業(yè)對顯微鏡的要求各不相同。例如,材料科學(xué)領(lǐng)域可能更注重高分辨率和深層穿透能力,而生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域則可能更關(guān)注細(xì)胞的微觀結(jié)構(gòu)和生物組織的彈性特性。

    20244-29

  • RIE反應(yīng)離子刻蝕在半導(dǎo)體工業(yè)中的應(yīng)用RIE反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)以其高精度、高效率、高均勻性和良好的選擇性,在半導(dǎo)體工業(yè)中發(fā)揮著不可替代的作用。

    20248-7

  • 等離子技術(shù)在芯片失效分析(IC failure analysis)領(lǐng)域的應(yīng)用- 開封(Decap)與去層(Depassivation)失效分析(FA)是利用各種方法檢測設(shè)備的失效位置和失效模式的技術(shù)。需要及時(shí)反饋有關(guān)這些故障的信息,以提高生產(chǎn)中設(shè)備的質(zhì)量和可靠性。

    20241-28

  • 無目鏡光學(xué)技術(shù)助力人造鉆石產(chǎn)業(yè)“鉆石恒久遠(yuǎn),一顆永流傳”。 天然鉆石身價(jià)不菲,隨著市場不斷擴(kuò)大,人造鉆石走進(jìn)人們視野。

    202311-1

  • FIB聚焦離子束加工技術(shù)簡介FIB(Focused Ion Beam)聚焦離子束加工技術(shù)是一種利用高能離子束進(jìn)行納米尺度加工和分析的先進(jìn)技術(shù)。它結(jié)合了離子束刻蝕和掃描電子顯微鏡(SEM)成像的功能,可廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子器件制造、生物醫(yī)學(xué)和納米器件研究等領(lǐng)域。下面將對FIB聚焦離子束加工技術(shù)進(jìn)行詳細(xì)介紹。   原理和設(shè)備: FIB聚焦離子束加工技術(shù)基于高能離子束與材料的相互作用。加速器產(chǎn)生的離子束通過光學(xué)透鏡系統(tǒng)的聚焦,將離子束的能量聚集到納米尺度的小區(qū)域內(nèi)。離子束可以通過改變聚焦強(qiáng)度和掃描方式來實(shí)現(xiàn)局部材料加工和成像。

    20238-29

  • DRV-Z1技術(shù)掀起檢測流程革新Vision Engineering的創(chuàng)新產(chǎn)品DRV-Z1是一款具有變倍功能的裸眼3D立體視覺數(shù)碼觀測系統(tǒng)。它在獨(dú)特的單一系統(tǒng)內(nèi)匯集了光學(xué)體視顯微鏡和數(shù)碼技術(shù)的優(yōu)勢。與市場上的其他3D觀測系統(tǒng)不同,DRV-Z1提供的立體圖像不需要使用者佩戴特殊的3D眼鏡或頭戴設(shè)備即可觀看。

    20237-28

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